Extinderea functionalitatii Laboratorului NANOSCALE-LAB de

structurare si caracterizare la scara nanometrica
 

 

 
 
 
Ro
Eng

 

Rezultate:

IMT-Bucuresti este detinatorul instalatiei “e-line Ultra High Resolution Electron Beam Lithography and Nanoengineering Workstation” produsa de firma Raith GmbH. Prin prezentul proiect aceasta instalatie a fost completata cu  urmatoarele module accessorii, denumite generic „Up-grade pentru instalatia de litografie EBL”:

Sistem de injectoare de gaz  (GIS) care sa permita efectuarea de experimente EBID (Electron Beam Induced Deposition);

Caracteristici tehnice:

  • numar de injectoare capilare: 5;
  • gaze pentru depunere:
    • pentru  wolfram: W (CO)6;
    • pentru platina: (Me3)MeCpPt;
    • pentru SiO2:  PMCPS;
    • pentru carbon: C14H4;
  • gaze  pentru corodare;
    • pentru SiO2: XeF2;
    • pentru carbon: vapori H2O;
  • Injectie paralela;

 

Aplicatii in: nanoelectronica, nanofotonica, nano-bio-tehnologii; 

Sistem de expunere de tip FBMS  (Fixed Beam Moving Stage), care permite realizarea intr-o singura etapa de trasee lungi (de ordinul cm) pentru aplicatii in nanofotonica (ghiduri de unda);

Caracteristici tehnice:

  • software compatibil cu tehnologia RAITH50;
  • lungime maxima de linie : 2cm;
  • precizie de lipire < 30nm;
  • posibilitate de modulare a fascicolului electronic in timpul expunerii;
  • viteza maxima de expunere : 3mm/sec;     
  • controller separat de cel al instalatiei EBL, frecventa de lucru: 10MHz;

Sistem de nanomanipulatoare;

Caracteristici tehnice:

  • numar nanomanipulatoare : maxim 5;
  • rezolutie deplasare x-y – 5nm;
  •  rezolutie verticala 2nm;
  • Actuatoare electromagnetice pentru deplasari mari si piezoceramice pentru deplasari fine;
  • Compatibil cu modulul EBL “RAITH laser interferometer stage”;
  • Controller DSP cu frecventa de lucru de  10MHz;
  • Raza la varf a sondelor de wolfram < 50nm;
  • Port dedicat pentru masuratori electrice;

Aceste module vor permite realizarea unor structuri cu dimensiuni in domeniul nanometrilor, pe arii mari, cu viteza ridicata, prin scriere directa pe placheta de 4 inch. Echipamentele vor conferi versatilitate instalatiei existente, care va putea fi utilizata in cercetari multidisciplinare in domeniul nanotehnologiilor, cu aplicatii pentru nanotuburi de carbon, ingineria structurilor subtiri, cristale fotonice. De asemenea vor putea fi realizate in acest mod contacte electrice pentru nanostructuri.

 


webmaster


last update: july 2009