|
|||||||||||||||||
|
|||||||||||||||||
Rezultate: IMT-Bucuresti este detinatorul instalatiei “e-line Ultra High Resolution Electron Beam Lithography and Nanoengineering Workstation” produsa de firma Raith GmbH. Prin prezentul proiect aceasta instalatie a fost completata cu urmatoarele module accessorii, denumite generic „Up-grade pentru instalatia de litografie EBL”: Sistem de injectoare de gaz (GIS) care sa permita efectuarea de experimente EBID (Electron Beam Induced Deposition);
Sistem de expunere de tip FBMS (Fixed Beam Moving Stage), care permite realizarea intr-o singura etapa de trasee lungi (de ordinul cm) pentru aplicatii in nanofotonica (ghiduri de unda); Caracteristici tehnice:
Sistem de nanomanipulatoare; Caracteristici tehnice:
Aceste module vor permite realizarea unor structuri cu dimensiuni in domeniul nanometrilor, pe arii mari, cu viteza ridicata, prin scriere directa pe placheta de 4 inch. Echipamentele vor conferi versatilitate instalatiei existente, care va putea fi utilizata in cercetari multidisciplinare in domeniul nanotehnologiilor, cu aplicatii pentru nanotuburi de carbon, ingineria structurilor subtiri, cristale fotonice. De asemenea vor putea fi realizate in acest mod contacte electrice pentru nanostructuri.
|
|||||||||||||||||
|
|
||||||||||||||||